Нами разработано следующее промышленное оборудование:

• установки для диффузии в кремний ( такие как "СДОМ" и.д.р.);

• установки для осаждения диэлектрических слоев при пониженном давлении (LPCVD такие как "Изотрон" и.д.р.);

• установки для низкотемпературного осаждения нитрида кремния и двуокиси кремния с плазменной активацией процесса (PECVD такие как "Изоплаз" и.д.р.);

• установка для жидкостной эпитаксии арсенида галлия;

• установки вакуумного магнетронного напыления (УВМН);

• установки плазменного травления, очистки и обработки деталей;

• установки пирогенного окисления (такие как "Октава", "Оксид-3ПО" и.д.р.);